從原料源頭把控產(chǎn)品品質(zhì)
良好的性能來(lái)自一絲不茍的執(zhí)著熱門(mén)關(guān)鍵詞: 分析儀器, 液相色譜儀, 液質(zhì)聯(lián)用儀 ,AB,氮?dú)獍l(fā)生器,氣質(zhì)聯(lián)用儀
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當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 邁斯技術(shù)服務(wù) > 移機(jī)/培訓(xùn) > AB SCIEX液質(zhì)聯(lián)用儀專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)
簡(jiǎn)要描述:液質(zhì)聯(lián)用儀專(zhuān)業(yè)培訓(xùn): PM項(xiàng)目服務(wù)內(nèi)容 第一部分:維護(hù)前數(shù)據(jù)記錄 A.氣體檢查、真空檢查; B.Q1正離子模式數(shù)據(jù)記錄; C.Q3正離子模式數(shù)據(jù)記錄; D.PPGMS/MS測(cè)試; E.Q1負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄; F.Q3負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄;
產(chǎn)品分類(lèi)
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液質(zhì)聯(lián)用儀專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)介紹
液質(zhì)聯(lián)用儀專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)PM項(xiàng)目服務(wù)內(nèi)容
第一部分:維護(hù)前數(shù)據(jù)記錄
A.氣體檢查、真空檢查;
B.Q1正離子模式數(shù)據(jù)記錄;
C.Q3正離子模式數(shù)據(jù)記錄;
D.PPGMS/MS測(cè)試;
E.Q1負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄;
F.Q3負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄;
第二部分:維護(hù)過(guò)程部分
A.檢查儀器的輸入電壓是否正常;
B.檢查儀器所有的輸入氣體壓力是否正常;
C.檢查離子源各個(gè)接頭是否有堵塞或漏液情況,并通過(guò)超聲波清洗兩通接頭和噴霧出口部分;
D.檢查離子源是否有漏氣情況;
E.檢查離子源內(nèi)PEEK管,發(fā)現(xiàn)堵塞時(shí)更換,清洗離子源流路;
F.分別在正負(fù)離子模式下檢查離子源高壓是否正常,清洗離子源內(nèi)壁;
G.分別在正負(fù)離子模式下檢查L(zhǎng)ENS電路板上各個(gè)測(cè)試點(diǎn)的電壓是否正常;
H.檢查并優(yōu)化檢測(cè)器電壓;
I.根據(jù)維護(hù)前做的測(cè)試實(shí)驗(yàn),停機(jī)清洗LINAC,Q1和Q3,清洗接口部分(interface,Oriface內(nèi)部,Qjet,curtainplate)和四極桿;
J.檢查機(jī)械泵,清洗機(jī)械泵濾網(wǎng);
K.檢查空氣過(guò)濾網(wǎng),堵塞時(shí)更換;
L.用壓縮空氣吹洗儀器內(nèi)部的灰塵,消除潛在的故障隱患;
M.檢查操作儀器的工作站,清除不必要的程序并壓縮整理磁盤(pán);
第三部分維護(hù)后實(shí)驗(yàn)結(jié)果和記錄
A.實(shí)驗(yàn)前檢查儀器真空度是否正常,調(diào)節(jié)RF;
B.調(diào)節(jié)優(yōu)化離子源參數(shù),用標(biāo)準(zhǔn)品分別做Q1、Q3正負(fù)離子模式下實(shí)驗(yàn),記錄實(shí)驗(yàn)結(jié)果;
第四部分本次維護(hù)保養(yǎng)總結(jié)
A.清洗離子源、curtainplate、orificeplate、skimmer、Q0、Q1、Q3。
B.電路板除塵,儀器清灰。
C.測(cè)試LENS電壓,電壓值均符合要求。
D.調(diào)試Q1、Q3正負(fù)離子模式PPG信號(hào)。
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